Основа под макияж Huda Beauty Complexion Perfection
(30 мл)
Шелковистая основа под макияж, которая создает гладкость и увлажняет кожу.
Богатая, питательная формула, обогащенная маслом из семян шиповника придает богатый цветочный аромат.
Состав:
Aqua (Water), Cyclopentasiloxane, Isododecane, Cera Alba (Beeswax), Butyrospermum Parkii (Shea) Butter, Myrica Cerifera (Bayberry) Fruit Wax, Propylene Glycol, Cetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone, Caprylic/Capric Triglyceride, PEG-30 Dipolyhydroxystearate,Disteardimonium Hectorite, Phenyl Trimethicone, Vinyl Dimethicone/MethiconeSilsesquioxane Crosspolymer, Trimethylsiloxysilicate, Sodium Chloride, Dimethicone, Phenoxyethanol, Rosa Moschata Seed Oil, Sodium Dehydroacetate, Sodium Gluconate, Tocopheryl Acetate, Ethylhexylglycerin, Parfum (Fragrance), Benzyl Salicylate, Linalool, Coumarin, Hydroxycitronellal.
(30 мл)
Шелковистая основа под макияж, которая создает гладкость и увлажняет кожу.
Богатая, питательная формула, обогащенная маслом из семян шиповника придает богатый цветочный аромат.
Состав:
Aqua (Water), Cyclopentasiloxane, Isododecane, Cera Alba (Beeswax), Butyrospermum Parkii (Shea) Butter, Myrica Cerifera (Bayberry) Fruit Wax, Propylene Glycol, Cetyl PEG/PPG-10/1 Dimethicone, Caprylic/Capric Triglyceride, PEG-30 Dipolyhydroxystearate,Disteardimonium Hectorite, Phenyl Trimethicone, Vinyl Dimethicone/MethiconeSilsesquioxane Crosspolymer, Trimethylsiloxysilicate, Sodium Chloride, Dimethicone, Phenoxyethanol, Rosa Moschata Seed Oil, Sodium Dehydroacetate, Sodium Gluconate, Tocopheryl Acetate, Ethylhexylglycerin, Parfum (Fragrance), Benzyl Salicylate, Linalool, Coumarin, Hydroxycitronellal.
| Характеристики косметики | |
| Дополнительный эффект | Увлажнение |
| Консистенция средства | Жидкая |
| Некомедогенно | да |
| Объём | 30.0 мл |